Vanadium dioxide thin films showing a semiconductor-metal transition and their integration in advanced filtering devices in the RF/microwave domain - Université de Limoges Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2009

Vanadium dioxide thin films showing a semiconductor-metal transition and their integration in advanced filtering devices in the RF/microwave domain

Aurelian Crunteanu
MINACOM
Julien Givernaud
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 915829
MINACOM
Jean-Christophe Orlianges
MINACOM
CV
Corinne Champeaux
Axe 2 : procédés de traitements de surface
CV
Alain Catherinot
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 915830
Axe 2 : procédés de traitements de surface
Arnaud Pothier
MINACOM
CV
Pierre Blondy
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 915831
MINACOM

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https://unilim.hal.science/hal-00437618

Soumis le : mardi 1 décembre 2009-09:39:50

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:14

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00437618 , version 1 (01-12-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00437618 , version 1

Citer

Aurelian Crunteanu, Julien Givernaud, Jean-Christophe Orlianges, Corinne Champeaux, Alain Catherinot, et al.. Vanadium dioxide thin films showing a semiconductor-metal transition and their integration in advanced filtering devices in the RF/microwave domain. E-MRS Spring Meeting 2009, Jun 2009, Strasbourg, France. ⟨hal-00437618⟩

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