Vanadium dioxide thin films showing a semiconductor-metal transition and their integration in advanced filtering devices in the RF/microwave domain

Aurelian Crunteanu 1 Julien Givernaud 1 Jean-Christophe Orlianges 1 Corinne Champeaux 2 Alain Catherinot 2 Arnaud Pothier 1 Pierre Blondy 1
1 MINACOM
XLIM - XLIM
2 Axe 2 : procédés de traitements de surface
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-00437618
Contributeur : Marie-Laure Guillat <>
Soumis le : mardi 1 décembre 2009 - 09:39:50
Dernière modification le : mardi 12 novembre 2019 - 14:06:03

Identifiants

  • HAL Id : hal-00437618, version 1

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Citation

Aurelian Crunteanu, Julien Givernaud, Jean-Christophe Orlianges, Corinne Champeaux, Alain Catherinot, et al.. Vanadium dioxide thin films showing a semiconductor-metal transition and their integration in advanced filtering devices in the RF/microwave domain. E-MRS Spring Meeting 2009, Jun 2009, Strasbourg, France. ⟨hal-00437618⟩

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