The effect of thermal annealing on the electrical and structural properties of pure and nickel-doped amprphous carbon thin films deposited by PLD - Université de Limoges Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2009

The effect of thermal annealing on the electrical and structural properties of pure and nickel-doped amprphous carbon thin films deposited by PLD

Jean-Christophe Orlianges
MINACOM
CV
Julien Givernaud
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 915829
MINACOM
Corinne Champeaux
Axe 2 : procédés de traitements de surface
CV
Alain Catherinot
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 915830
Axe 2 : procédés de traitements de surface
Thérèse Merle-Méjean
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 915588
Axe 3 : organisation structurale multiéchelle des matériaux
Arnaud Pothier
MINACOM
CV
Aurelian Crunteanu
MINACOM
Pierre Blondy
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 915831
MINACOM

Marie-Laure Guillat  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://unilim.hal.science/hal-00437747

Soumis le : mardi 1 décembre 2009-13:40:47

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:14

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Dates et versions

hal-00437747 , version 1 (01-12-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00437747 , version 1

Citer

Jean-Christophe Orlianges, Julien Givernaud, Corinne Champeaux, Alain Catherinot, Thérèse Merle-Méjean, et al.. The effect of thermal annealing on the electrical and structural properties of pure and nickel-doped amprphous carbon thin films deposited by PLD. E-MRS Spring Meeting 2009, Symposium Q : Laser and plasma processing for advanced materials, Jun 2009, Strasbourg, France. ⟨hal-00437747⟩

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