The effect of thermal annealing on the electrical and structural properties of pure and nickel-doped amprphous carbon thin films deposited by PLD

Jean-Christophe Orlianges 1 Julien Givernaud 1 Corinne Champeaux 2 Alain Catherinot 2 Thérèse Merle-Méjean 3 Arnaud Pothier 1 Aurelian Crunteanu 1 Pierre Blondy 1
1 MINACOM
XLIM - XLIM
2 Axe 2 : procédés de traitements de surface
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
3 Axe 3 : organisation structurale multiéchelle des matériaux
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
Type de document :
Communication dans un congrès
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Contributeur : Marie-Laure Guillat <>
Soumis le : mardi 1 décembre 2009 - 13:40:47
Dernière modification le : mardi 12 novembre 2019 - 14:06:03

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  • HAL Id : hal-00437747, version 1

Citation

Jean-Christophe Orlianges, Julien Givernaud, Corinne Champeaux, Alain Catherinot, Thérèse Merle-Méjean, et al.. The effect of thermal annealing on the electrical and structural properties of pure and nickel-doped amprphous carbon thin films deposited by PLD. E-MRS Spring Meeting 2009, Symposium Q : Laser and plasma processing for advanced materials, Jun 2009, Strasbourg, France. ⟨hal-00437747⟩

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