Réalisation de films piézoélectriques de nitrure d'aluminium par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2009

Réalisation de films piézoélectriques de nitrure d'aluminium par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma

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Pascal Tristant
Axe 2 : procédés de traitements de surface
G. Sanchez
  • Fonction : Auteur
Christelle Dublanche-Tixier
Axe 2 : procédés de traitements de surface
Aurelian Crunteanu
MINACOM
A. Bologna-Alles
  • Fonction : Auteur
Pierre Blondy
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 915831
MINACOM
Arnaud Pothier
MINACOM
CV
Florent Tetard
Propriétés mécaniques et thermodynamiques des matériaux

Marie-Laure Guillat  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-00437760

Soumis le : mardi 1 décembre 2009-14:01:44

Dernière modification le : samedi 26 mars 2022-04:28:43

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00437760 , version 1 (01-12-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00437760 , version 1

Citer

Pascal Tristant, G. Sanchez, Christelle Dublanche-Tixier, Aurelian Crunteanu, A. Bologna-Alles, et al.. Réalisation de films piézoélectriques de nitrure d'aluminium par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma. Premier Colloque Francophone sur les Matériaux, les Procédés et l'Environnement, May 2009, Busteni, Romania. pp.45-48. ⟨hal-00437760⟩

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