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Communication dans un congrès

Nitriding process at low temperature for thin metal films in (Ar-N2-H2) expanding ternary plasma

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-00438452
Contributeur : Marie-Laure Guillat <>
Soumis le : jeudi 3 décembre 2009 - 16:50:16
Dernière modification le : mercredi 11 décembre 2019 - 16:16:02

Identifiants

  • HAL Id : hal-00438452, version 1

Citation

Said Touimi, Isabelle Jauberteau, S. Weber, Annie Bessaudou, Armand Passelergue, et al.. Nitriding process at low temperature for thin metal films in (Ar-N2-H2) expanding ternary plasma. Innovations in Thin Films Processing and Characterization (IFTPC), Nov 2009, Nancy, France. ⟨hal-00438452⟩

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