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Communication Dans Un Congrès Année : 2013

An expanding microwave plasma to process thin metal films at low temperature

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Isabelle Jauberteau
Axe 2 : procédés plasmas et lasers
Jean-Louis Jauberteau
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 915590
Axe 2 : procédés plasmas et lasers
Julie Cornette
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 929131
Axe 3 : organisation structurale multiéchelle des matériaux
Annie Bessaudou
MINACOM
Richard Mayet
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 949786
Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
Thérèse Merle-Méjean
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 915588
Axe 3 : organisation structurale multiéchelle des matériaux

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics] Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Annie Bessaudou  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-00918319

Soumis le : vendredi 13 décembre 2013-12:08:01

Dernière modification le : samedi 26 mars 2022-04:28:20

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00918319 , version 1 (13-12-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00918319 , version 1

Citer

Isabelle Jauberteau, Jean-Louis Jauberteau, Julie Cornette, Annie Bessaudou, Richard Mayet, et al.. An expanding microwave plasma to process thin metal films at low temperature. Institut für Oberflächen und Schichtanalytik, Kaiserslautern (Allemagne), Oct 2013, Kaiserslautern, Germany. ⟨hal-00918319⟩

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