An expanding microwave plasma to process thin metal films at low temperature - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2013

An expanding microwave plasma to process thin metal films at low temperature

(1) , (1) , (2) , (3) , (4) , (2)
1
2
3
4
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00918319 , version 1 (13-12-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00918319 , version 1

Citer

Isabelle Jauberteau, Jean-Louis Jauberteau, Julie Cornette, Annie Bessaudou, Richard Mayet, et al.. An expanding microwave plasma to process thin metal films at low temperature. Institut für Oberflächen und Schichtanalytik, Kaiserslautern (Allemagne), Oct 2013, Kaiserslautern, Germany. ⟨hal-00918319⟩
55 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook Twitter LinkedIn More