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Deposition of nanometric SiOxHyCz films at different substrate temperatures by an atmospheric pressure microwave plasma torch (TIA) : first steps towards self-assembled 3-dimensional nano-sensors

Type de document :
Article dans une revue
Domaine :
Liste complète des métadonnées

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-00942421
Contributeur : Pamela Bathias <>
Soumis le : mercredi 5 février 2014 - 17:32:34
Dernière modification le : mercredi 14 février 2018 - 16:29:43

Identifiants

  • HAL Id : hal-00942421, version 1

Citation

Xavier Landreau, B. Lanfant, Thérèse Merle-Méjean, G. Bouscarrat, Z. Bouchkour, et al.. Deposition of nanometric SiOxHyCz films at different substrate temperatures by an atmospheric pressure microwave plasma torch (TIA) : first steps towards self-assembled 3-dimensional nano-sensors. World Journal of Engineering, 2011, Proceedings of the 19th Annual International Conference on Composites or Nano-Engeneering (ICCE-19),, pp.747. ⟨hal-00942421⟩

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