Depositon of nanometric SiOxHyCz films at different substrate temperatures by an atmospheric pressure microwave plasma torch (TIA) : first steps towards self-assembled 3-dimensional nano-sensors

Xavier Landreau B. Lanfant Thérèse Merle-Méjean 1 G. Bouscarrat Z. Bouchkour 2 Christelle Dublanche-Tixier 3 Cédric Jaoul 3 Pascal Tristant 3
1 SPCTS-AXE3 - Axe 3 : organisation structurale multiéchelle des matériaux
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
2 SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
3 Axe 2 : procédés de traitements de surface
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
Type de document :
Communication dans un congrès
Domaine :
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https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-00944747
Contributeur : Pamela Bathias <>
Soumis le : mardi 11 février 2014 - 10:18:21
Dernière modification le : mercredi 14 février 2018 - 16:29:43

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Citation

Xavier Landreau, B. Lanfant, Thérèse Merle-Méjean, G. Bouscarrat, Z. Bouchkour, et al.. Depositon of nanometric SiOxHyCz films at different substrate temperatures by an atmospheric pressure microwave plasma torch (TIA) : first steps towards self-assembled 3-dimensional nano-sensors. 19th Annual International Conference on Composites or Nano-Engeneering (ICCE-19), Jul 2011, Shanghaï, China. pp.747. ⟨hal-00944747⟩

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