Dépôts céramiques par PVD ou CVD assistées ou par projection plasma

Pierre Fauchais 1
1 Axe 2 : procédés de traitements de surface
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
Résumé : Pour pallier la fragilité, la complexité et le coût des pièces céramiques, depuis les années 1980, l'industrie a développé les dépôts céramiques sur des pièces métalliques de quelques millimètres à plusieurs mètres. Les dépôts minces (< quelques mm) sont réalisés soit par vaporisation physique assistée par électrons, ions, plasma, laser... soit par dépôts chimiques en phase vapeur assistés ou non par plasma. Les dépôts épais (de 50 mm à quelques mm) consistent à projeter des particules de quelques dizaines de mm par flammes ou plasmas thermiques. Quelques exemples d'applications, liées aux propriétés des dépôts obtenus sont présentés. Après une brève évaluation des coûts relatifs aux différents dépôts, les perspectives de développement sont discutées.
Type de document :
Article dans une revue
Domaine :
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https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-00946544
Contributeur : Pamela Bathias <>
Soumis le : jeudi 13 février 2014 - 16:23:37
Dernière modification le : mardi 17 avril 2018 - 21:42:03

Identifiants

  • HAL Id : hal-00946544, version 1

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Citation

Pierre Fauchais. Dépôts céramiques par PVD ou CVD assistées ou par projection plasma. Techniques de l'Ingenieur, Techniques de l'ingénieur, 2013, pp.Référence N4801. ⟨hal-00946544⟩

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