Physical vapor partial filtering for chemical composition control in hybrid PECVD/EB-PVD process

Cédric Jaoul 1 Frédéric Meunier Pascal Tristant 1 J.P. Lavoute 2 Etienne Laborde 2 Christelle Dublanche-Tixier 1
1 Axe 2 : procédés de traitements de surface
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
2 SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
Type de document :
Communication dans un congrès
Domaine :
Liste complète des métadonnées
https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-00949365
Contributeur : Pamela Bathias <>
Soumis le : mercredi 19 février 2014 - 15:26:55
Dernière modification le : mercredi 14 février 2018 - 16:29:30

Identifiants

  • HAL Id : hal-00949365, version 1

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Citation

Cédric Jaoul, Frédéric Meunier, Pascal Tristant, J.P. Lavoute, Etienne Laborde, et al.. Physical vapor partial filtering for chemical composition control in hybrid PECVD/EB-PVD process. 40th International Conference on Metallurgical Coatings and Thin films (ICMCTF), Apr 2013, San Diego, United States. ⟨hal-00949365⟩

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