Mise en œuvre du procédé de dépôt chimique en phase vapeur pour la synthèse de couches minces d'oxyde de titane par torche plasma-micro-onde (TIA) à la pression atmosphérique

Y. Gazal Christelle Dublanche-Tixier 1 Christophe Chazelas 1 Pascal Tristant 1
1 Axe 2 : procédés de traitements de surface
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
Type de document :
Communication dans un congrès
Domaine :
Liste complète des métadonnées

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-00949370
Contributeur : Pamela Bathias <>
Soumis le : mercredi 19 février 2014 - 15:30:11
Dernière modification le : mercredi 14 février 2018 - 16:29:42

Identifiants

  • HAL Id : hal-00949370, version 1

Collections

Citation

Y. Gazal, Christelle Dublanche-Tixier, Christophe Chazelas, Pascal Tristant. Mise en œuvre du procédé de dépôt chimique en phase vapeur pour la synthèse de couches minces d'oxyde de titane par torche plasma-micro-onde (TIA) à la pression atmosphérique. 3ème Colloque Francophone Pluridisciplinaire sur les Matériaux, l'Environnement et l'Electronique (PLUMEE), May 2013, Bacau, Romania. ⟨hal-00949370⟩

Partager

Métriques

Consultations de la notice

73