Formation of Ti3SiC2 films by aerosol deposition method - Université de Limoges Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Formation of Ti3SiC2 films by aerosol deposition method

Malgorzata Anna Piechowiak
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 929245
Axe 1 : procédés céramiques
Fabrice Rossignol
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 929134
Axe 1 : procédés céramiques
O. Durand
  • Fonction : Auteur
G. Etchegoyen
  • Fonction : Auteur
Centre de Transfert de Technologies Céramiques

Domaines

Matériaux

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https://unilim.hal.science/hal-00950557

Soumis le : vendredi 21 février 2014-15:57:38

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:14

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00950557 , version 1 (21-02-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00950557 , version 1

Citer

Malgorzata Anna Piechowiak, Fabrice Rossignol, O. Durand, G. Etchegoyen. Formation of Ti3SiC2 films by aerosol deposition method. International Conference on Solid Films and Surface (ICSFS16), Jul 2012, Genes, Italy. ⟨hal-00950557⟩

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