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Effect of low RF bias potential on AlN films obtained by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition
Gustavo Sanchez
1
Pascal Tristant
2
Christelle Dublanche-Tixier
3
Florent Tetard
4
A. Bologna
5
2
Axe 2 : procédés de traitements de surface
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
Gustavo Sanchez 1
Auteur
Pascal Tristant 2
Auteur IdHAL : pascal-tristant
Christelle Dublanche-Tixier 3
Auteur
Florent Tetard 4
Auteur IdHAL : florent-tetard ResearcherId : http://www.researcherid.com/rid/B-9004-2014 ORCID : https://orcid.org/0000-0001-6095-8892
A. Bologna 5
Auteur
1
Departamento de Ingeniera de Materiales (Uruguay)
- UDELAR - UDELAR, Facultad de Ingenieria [Montevideo] (Universidad de la Republica Av. 18 de Julio 1968 - Teléfono (598) 2400 9201 - Montevideo - Uruguay)
2
Axe 2 : procédés de traitements de surface (France)
- SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface (SPCTS, Centre Européen de la Céramique, 12 Rue Atlantis, 87068 LIMOGES CEDEX - France)
- UNILIM - Université de Limoges : UMR6638 (33 rue François Mitterrand BP23204 87032 Limoges - France)
- ENSCI - Ecole Nationale Supérieure de Céramique Industrielle : UMR6638 (Centre Européen de la Céramique - 12, rue Atlantis - 87068 Limoges Cedex - France)
- IPAM - Institut des Procédés Appliqués aux Matériaux : UMR6638 (Centre Européen de la Céramique
12, rue Atlantis, parc d’Ester
87068 Limoges Cedex - France)
- UNILIM - Université de Limoges (33 rue François Mitterrand BP23204 87032 Limoges - France)
- INC - Institut de Chimie du CNRS : UMR6638 (3 Rue Michel-Ange 75 016 Paris - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR6638 (France)
3
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface (SPCTS, Centre Européen de la Céramique, 12 Rue Atlantis, 87068 LIMOGES CEDEX - France)
- UNILIM - Université de Limoges : UMR7315 (33 rue François Mitterrand BP23204 87032 Limoges - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR7315 (France)
- INC - Institut de Chimie du CNRS : UMR7315 (3 Rue Michel-Ange 75 016 Paris - France)
- ENSCI - Ecole Nationale Supérieure de Céramique Industrielle : UMR7315 (Centre Européen de la Céramique - 12, rue Atlantis - 87068 Limoges Cedex - France)
- IPAM - Institut des Procédés Appliqués aux Matériaux : UMR7315 (Centre Européen de la Céramique
12, rue Atlantis, parc d’Ester
87068 Limoges Cedex - France)
- UNILIM - Université de Limoges (33 rue François Mitterrand BP23204 87032 Limoges - France)
4
FINANO (France)
- LSPM - Laboratoire des Sciences des Procédés et des Matériaux (Institut Galilée, Université Paris 13, 99 avenue Jean-baptiste Clément, F-93430 Villetaneuse - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UPR3407 (France)
- USPC - Université Sorbonne Paris Cité (Université Sorbonne Paris Cité | 100-104, avenue de France | 75013 Paris - France)
- Institut Galilée (France)
- UP13 - Université Paris 13 (France)
5
Departamento de Ingenieria de Materiales (Uruguay)
- UDELAR - UDELAR, Facultad de Ingenieria [Montevideo] (Universidad de la Republica Av. 18 de Julio 1968 - Teléfono (598) 2400 9201 - Montevideo - Uruguay)
Liste complète des métadonnées
https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-00985449
Contributeur : Christelle Dublanche Tixier <>
Soumis le : mardi 29 avril 2014 - 16:55:32
Dernière modification le : jeudi 30 juillet 2020 - 03:13:42
Contributeur : Christelle Dublanche Tixier <>
Soumis le : mardi 29 avril 2014 - 16:55:32
Dernière modification le : jeudi 30 juillet 2020 - 03:13:42
Identifiants
- HAL Id : hal-00985449, version 1
- DOI : 10.1016/j.surfcoat.2013.10.
Collections
CNRS | SPCTS-AXE2 | IPAM | UNIV-PARIS13 | LSPM_P13 | UNILIM | SPCTS | INC-CNRS | USPC | IRCER | IRCER-AXE2 | GALILE | SORBONNE-PARIS-NORD | PSL
Citation
Gustavo Sanchez, Pascal Tristant, Christelle Dublanche-Tixier, Florent Tetard, A. Bologna. Effect of low RF bias potential on AlN films obtained by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition. Surface and Coatings Technology, Elsevier, 2013, pp.SCT-18981. ⟨10.1016/j.surfcoat.2013.10.⟩. ⟨hal-00985449⟩
Métriques
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