Article Dans Une Revue
Surface and Coatings Technology
Année : 2013
Christelle Dublanche Tixier : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-00985449
Soumis le : mardi 29 avril 2014-16:55:32
Dernière modification le : mercredi 31 mai 2023-15:51:27
Citer
Gustavo Sanchez, Pascal Tristant, Christelle Dublanche-Tixier, Florent Tetard, A. Bologna. Effect of low RF bias potential on AlN films obtained by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition. Surface and Coatings Technology, 2013, pp.SCT-18981. ⟨10.1016/j.surfcoat.2013.10⟩. ⟨hal-00985449⟩
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