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A study on controllable aluminum doped zinc oxide patterning by chemical etching for MEMS application

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https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-01264439
Contributeur : Matthieu Chatras Connectez-vous pour contacter le contributeur
Soumis le : vendredi 29 janvier 2016 - 12:10:31
Dernière modification le : samedi 26 mars 2022 - 04:31:04

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A.A Ralib, A.N Nordin, N.A Malik, R Othman, A.H.M Zahirul Alam, et al.. A study on controllable aluminum doped zinc oxide patterning by chemical etching for MEMS application . Microsystem Technologies, Springer Verlag, 2016, ⟨10.1007/s00542-015-2783-1⟩. ⟨hal-01264439⟩

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