A study on controllable aluminum doped zinc oxide patterning by chemical etching for MEMS application

A.A Ralib A.N Nordin N.A Malik R Othman A.H.M Zahirul Alam S Khan Oussama Mortada 1 Aurelian Crunteanu 1 Jean-Christophe Orlianges 2 Matthieu Chatras 1 Pierre Blondy 1
1 XLIM-RFEI - RF-ELITE : RF-Electronique Imprimée pour les Télécommunications et l'Energie
XLIM - XLIM : RFEI
2 Axe 2 : procédés de traitements de surface
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
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Contributeur : Matthieu Chatras <>
Soumis le : vendredi 29 janvier 2016 - 12:10:31
Dernière modification le : mercredi 14 février 2018 - 16:29:31

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A.A Ralib, A.N Nordin, N.A Malik, R Othman, A.H.M Zahirul Alam, et al.. A study on controllable aluminum doped zinc oxide patterning by chemical etching for MEMS application . Microsystem Technologies, Springer Verlag, 2016, ⟨10.1007/s00542-015-2783-1⟩. ⟨hal-01264439⟩

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