A study on controllable aluminum doped zinc oxide patterning by chemical etching for MEMS application

A.A Ralib; A.N Nordin; N.A Malik; R Othman; A.H.M Zahirul Alam; S Khan; Oussama Mortada; Aurelian Crunteanu; Jean-Christophe Orlianges; Matthieu Chatras; Pierre Blondy

doi:10.1007/s00542-015-2783-1

A study on controllable aluminum doped zinc oxide patterning by chemical etching for MEMS application

A.A Ralib A.N Nordin N.A Malik R Othman A.H.M Zahirul Alam S Khan Oussama Mortada ¹ Aurelian Crunteanu ¹ Jean-Christophe Orlianges ² Matthieu Chatras ¹ Pierre Blondy ¹

1 XLIM-RFEI - RF-ELITE : RF-Electronique Imprimée pour les Télécommunications et l'Energie

XLIM - XLIM : RFEI

2 Axe 2 : procédés de traitements de surface

SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface

Type de document :

Article dans une revue

Microsystem Technologies, Springer Verlag, 2016, 〈10.1007/s00542-015-2783-1〉

Domaine :

Sciences de l'ingénieur [physics] / Electronique

Liste complète des métadonnées

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-01264439
Contributeur : Matthieu Chatras <>
Soumis le : vendredi 29 janvier 2016 - 12:10:31
Dernière modification le : mercredi 14 février 2018 - 16:29:31

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