Elaboration and electrical characterization of Ti3SiC2 films realized by the Aerosol Deposition Method - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année :

Elaboration and electrical characterization of Ti3SiC2 films realized by the Aerosol Deposition Method

J. Henon
  • Fonction : Auteur
O. Durand-Panteix
  • Fonction : Auteur
Malgorzata Anna Piechowiak
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 929245
Axe 1 : procédés céramiques
V. Coudert
  • Fonction : Auteur
B. Lucas
  • Fonction : Auteur
Pascal Marchet
Axe 3 : organisation structurale multiéchelle des matériaux
G. Etchegoyen
  • Fonction : Auteur
Fabrice Rossignol
  • Fonction : Auteur
Axe 1 : procédés céramiques

Domaines

Chimie Matériaux Sciences de l'ingénieur [physics] Matériaux

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https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-01852002

Soumis le : mardi 31 juillet 2018-14:28:28

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:07

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01852002 , version 1 (31-07-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01852002 , version 1

Citer

J. Henon, O. Durand-Panteix, Malgorzata Anna Piechowiak, V. Coudert, B. Lucas, et al.. Elaboration and electrical characterization of Ti3SiC2 films realized by the Aerosol Deposition Method. Electroceramics XV, SPCTS, Jun 2016, Limoges, France. ⟨hal-01852002⟩

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