Multi-structural TiO2 film synthesised by an atmospheric pressure plasma-enhanced chemical vapour deposition microwave torch

Y. Gazal; Christelle Dublanche-Tixier; Christophe Chazelas; Maggy Colas; Pierre Carles; Pascal Tristant

Multi-structural TiO2 film synthesised by an atmospheric pressure plasma-enhanced chemical vapour deposition microwave torch

Y. Gazal ¹ Christelle Dublanche-Tixier ² Christophe Chazelas ² Maggy Colas ³ Pierre Carles ⁴ Pascal Tristant ²

1 SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface

2 SPCTS-AXE2 - Axe 2 : procédés plasmas et lasers

SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface

3 SPCTS-AXE3 - Axe 3 : organisation structurale multiéchelle des matériaux

SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface

4 SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface

Abstract : In this study, a microwave plasma torch working at atmospheric pressure has been used for TiO2 thin film synthesis. We first optimised the deposition conditions in order to avoid the formation of powder in the plasma phase. Then, the characterisation of the TiO2 films deposited in the optimised conditions revealed that both morphology and phase structure of the film are radial dependent. At the centre, the film is crystallised, exhibiting a well-defined columnar microstructure. Meanwhile, at the periphery, the film is amorphous, with a cauliflower-like structure.

Keywords : Atmospheric Pressure Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Microwave Plasma Torch Titanium Dioxide Thin Film Microstructure

Type de document :

Article dans une revue

Domaine :

Chimie / Matériaux

Sciences de l'ingénieur [physics] / Matériaux

Sciences de l'ingénieur [physics] / Plasmas

Liste complète des métadonnées

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-01875369
Contributeur : Beatrice Derory <>
Soumis le : lundi 17 septembre 2018 - 11:54:12
Dernière modification le : mercredi 6 novembre 2019 - 18:27:09

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