BISMUTH OXIDE THIN FILMS DEPOSITED ON SILICON THROUGH PULSED LASER ABLATION, FOR INFRARED DETECTORS - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Surface Review and Letters Année : 2016

BISMUTH OXIDE THIN FILMS DEPOSITED ON SILICON THROUGH PULSED LASER ABLATION, FOR INFRARED DETECTORS

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Simona Condurache-Bota
  • Fonction : Auteur
Nicolae Tigau
  • Fonction : Auteur
Mirela Praisler
  • Fonction : Auteur
Dunărea de Jos University of Galați [Romania]
Catalin Constantinescu
Axe 2 : procédés plasmas et lasers
CV

Domaines

Chimie Matériaux Sciences de l'ingénieur [physics] Matériaux

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https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-01877664

Soumis le : jeudi 20 septembre 2018-10:54:25

Dernière modification le : samedi 26 mars 2022-04:29:20

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Dates et versions

hal-01877664 , version 1 (20-09-2018)

Identifiants

Citer

Simona Condurache-Bota, Nicolae Tigau, Mirela Praisler, Catalin Constantinescu. BISMUTH OXIDE THIN FILMS DEPOSITED ON SILICON THROUGH PULSED LASER ABLATION, FOR INFRARED DETECTORS. Surface Review and Letters, 2016, 23 (02), ⟨10.1142/S0218625X15501048⟩. ⟨hal-01877664⟩

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