BISMUTH OXIDE THIN FILMS DEPOSITED ON SILICON THROUGH PULSED LASER ABLATION, FOR INFRARED DETECTORS

Simona Condurache-Bota; Nicolae Tigau; Mirela Praisler; Catalin Constantinescu

doi:10.1142/S0218625X15501048

Article dans une revue

BISMUTH OXIDE THIN FILMS DEPOSITED ON SILICON THROUGH PULSED LASER ABLATION, FOR INFRARED DETECTORS

Simona Condurache-Bota Nicolae Tigau Mirela Praisler ¹ Catalin Constantinescu ²

1 Dunărea de Jos University of Galați [Romania]

2 SPCTS-AXE2 - Axe 2 : procédés plasmas et lasers

SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface

Type de document :

Article dans une revue

Domaine :

Chimie / Matériaux

Sciences de l'ingénieur [physics] / Matériaux

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https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-01877664
Contributeur : BEATRICE DERORY Connectez-vous pour contacter le contributeur
Soumis le : jeudi 20 septembre 2018 - 10:54:25
Dernière modification le : samedi 26 mars 2022 - 04:29:20

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