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Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapour deposition of nanostructured TiO2/SiO2 films: correlations between the film composition and plasma composition

yoan Gazal 1 Christophe Chazelas 1 Christelle Dublanche-Tixier 1 Pascal Tristant 1 
1 SPCTS-AXE2 - Axe 2 : procédés plasmas et lasers
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
Type de document :
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Liste complète des métadonnées

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-01885652
Contributeur : BEATRICE DERORY Connectez-vous pour contacter le contributeur
Soumis le : mardi 2 octobre 2018 - 10:54:28
Dernière modification le : samedi 26 mars 2022 - 04:29:08

Identifiants

  • HAL Id : hal-01885652, version 1

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Citation

yoan Gazal, Christophe Chazelas, Christelle Dublanche-Tixier, Pascal Tristant. Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapour deposition of nanostructured TiO2/SiO2 films: correlations between the film composition and plasma composition. CIP 2017, Jun 2017, Nice, France. ⟨hal-01885652⟩

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