Poster De Conférence
Année : 2017
BEATRICE DERORY : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://unilim.hal.science/hal-01885652
Soumis le : mardi 2 octobre 2018-10:54:28
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:15
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01885652 , version 1
Citer
Yoan Gazal, Christophe Chazelas, Christelle Dublanche-Tixier, Pascal Tristant. Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapour deposition of nanostructured TiO2/SiO2 films: correlations between the film composition and plasma composition. CIP 2017, Jun 2017, Nice, France. ⟨hal-01885652⟩
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