Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapour deposition of nanostructured TiO2/SiO2 films: correlations between the film composition and plasma composition - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
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Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapour deposition of nanostructured TiO2/SiO2 films: correlations between the film composition and plasma composition

Yoan Gazal
  • Fonction : Auteur
Axe 2 : procédés plasmas et lasers
Christophe Chazelas
Axe 2 : procédés plasmas et lasers
Christelle Dublanche-Tixier
Axe 2 : procédés plasmas et lasers
Pascal Tristant
Axe 2 : procédés plasmas et lasers

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Chimie Matériaux Sciences de l'ingénieur [physics] Matériaux

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Soumis le : mardi 2 octobre 2018-10:54:28

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Identifiants

  • HAL Id : hal-01885652 , version 1

Citer

Yoan Gazal, Christophe Chazelas, Christelle Dublanche-Tixier, Pascal Tristant. Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapour deposition of nanostructured TiO2/SiO2 films: correlations between the film composition and plasma composition. CIP 2017, Jun 2017, Nice, France. ⟨hal-01885652⟩

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