Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapour deposition of nanostructured TiO2/SiO2 films: correlations between the film composition and plasma composition

Yoan Gazal; Christophe Chazelas; Christelle Dublanche-Tixier; Pascal Tristant

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Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapour deposition of nanostructured TiO2/SiO2 films: correlations between the film composition and plasma composition

Yoan Gazal ¹ Christophe Chazelas ¹ Christelle Dublanche-Tixier ¹ Pascal Tristant ¹

1 SPCTS-AXE2 - Axe 2 : procédés plasmas et lasers

SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface

Type de document :

Poster

Domaine :

Chimie / Matériaux

Sciences de l'ingénieur [physics] / Matériaux

Liste complète des métadonnées

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-01885652
Contributeur : Beatrice Derory <>
Soumis le : mardi 2 octobre 2018 - 10:54:28
Dernière modification le : mardi 25 février 2020 - 10:26:02

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