Titanium dioxide films depositedby an atmosphericpressure PECVD torch: comparison of the staticand the dynamic modes

Amelie Perraudeau 1 Christelle Dublanche-Tixier 2 Christophe Chazelas 2 Pascal Tristant 2
1 SPCTS-AXE2 - Axe 2 : procédés plasmas et lasers
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
2 Axe 2 : procédés de traitements de surface
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-01893235
Contributeur : Beatrice Derory <>
Soumis le : jeudi 11 octobre 2018 - 11:20:25
Dernière modification le : vendredi 12 octobre 2018 - 01:17:08

Identifiants

  • HAL Id : hal-01893235, version 1

Collections

Citation

Amelie Perraudeau, Christelle Dublanche-Tixier, Christophe Chazelas, Pascal Tristant. Titanium dioxide films depositedby an atmosphericpressure PECVD torch: comparison of the staticand the dynamic modes. CIP MIATEC 2017, Jun 2017, Nice, France. ⟨hal-01893235⟩

Partager

Métriques

Consultations de la notice

11