On the Validity of Continuum Computational Fluid Dynamics Approach Under Very Low-Pressure Plasma Spray Conditions

Dmitrii Ivchenko; T. Zhang; Gilles Mariaux; Armelle Vardelle; Simon Goutier; T. Itina

On the Validity of Continuum Computational Fluid Dynamics Approach Under Very Low-Pressure Plasma Spray Conditions

Dmitrii Ivchenko ¹ T. Zhang Gilles Mariaux ² Armelle Vardelle ² Simon Goutier ² T. Itina

1 SPCTS-AXE2 - Axe 2 : procédés plasmas et lasers

SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface

2 Axe 2 : procédés de traitements de surface

SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface

Type de document :

Communication dans un congrès

Domaine :

Chimie / Matériaux

Sciences de l'ingénieur [physics] / Matériaux

Liste complète des métadonnées

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-01893276
Contributeur : Beatrice Derory <>
Soumis le : jeudi 11 octobre 2018 - 11:38:04
Dernière modification le : vendredi 12 octobre 2018 - 01:17:08

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