On the Validity of Continuum Computational Fluid Dynamics Approach Under Very Low-Pressure Plasma Spray Conditions - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année :

On the Validity of Continuum Computational Fluid Dynamics Approach Under Very Low-Pressure Plasma Spray Conditions

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Dmitrii Ivchenko
  • Fonction : Auteur
Axe 2 : procédés plasmas et lasers
Tiantian Zhang
  • Fonction : Auteur
Gilles Mariaux
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 925439
Axe 2 : procédés de traitements de surface
Armelle Vardelle
Axe 2 : procédés de traitements de surface
Simon Goutier
Axe 2 : procédés de traitements de surface
CV
T. Itina
  • Fonction : Auteur

Domaines

Chimie Matériaux Sciences de l'ingénieur [physics] Matériaux

BEATRICE DERORY  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-01893276

Soumis le : jeudi 11 octobre 2018-11:38:04

Dernière modification le : samedi 26 mars 2022-04:29:15

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01893276 , version 1 (11-10-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01893276 , version 1

Citer

Dmitrii Ivchenko, Tiantian Zhang, Gilles Mariaux, Armelle Vardelle, Simon Goutier, et al.. On the Validity of Continuum Computational Fluid Dynamics Approach Under Very Low-Pressure Plasma Spray Conditions. ITSC 2017, Jun 2017, Dusseldorf, Germany. ⟨hal-01893276⟩

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