On the Validity of Continuum Computational Fluid Dynamics Approach Under Very Low-Pressure Plasma Spray Conditions

Dmitrii Ivchenko 1 T. Zhang Gilles Mariaux 2 Armelle Vardelle 2 Simon Goutier 2 T. Itina
1 SPCTS-AXE2 - Axe 2 : procédés plasmas et lasers
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
2 Axe 2 : procédés de traitements de surface
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-01893276
Contributeur : Beatrice Derory <>
Soumis le : jeudi 11 octobre 2018 - 11:38:04
Dernière modification le : vendredi 12 octobre 2018 - 01:17:08

Identifiants

  • HAL Id : hal-01893276, version 1

Collections

Citation

Dmitrii Ivchenko, T. Zhang, Gilles Mariaux, Armelle Vardelle, Simon Goutier, et al.. On the Validity of Continuum Computational Fluid Dynamics Approach Under Very Low-Pressure Plasma Spray Conditions. ITSC 2017, Jun 2017, Dusseldorf, Germany. ⟨hal-01893276⟩

Partager

Métriques

Consultations de la notice

31