On the Validity of Continuum Computational Fluid Dynamics Approach Under Very Low-Pressure Plasma Spray Conditions

Dmitrii Ivchenko 1 T. Zhang Gilles Mariaux 1 Armelle Vardelle 1 Simon Goutier 1 T. Itina
1 SPCTS-AXE2 - Axe 2 : procédés plasmas et lasers
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
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Contributeur : Beatrice Derory <>
Soumis le : jeudi 25 octobre 2018 - 15:26:09
Dernière modification le : vendredi 26 octobre 2018 - 01:15:00

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  • HAL Id : hal-01905069, version 1

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Citation

Dmitrii Ivchenko, T. Zhang, Gilles Mariaux, Armelle Vardelle, Simon Goutier, et al.. On the Validity of Continuum Computational Fluid Dynamics Approach Under Very Low-Pressure Plasma Spray Conditions. Journal of Thermal Spray Technology, 2018, 27 (1-2), pp.3-13. ⟨hal-01905069⟩

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