Optimisation du mode de dépôt dynamique pour l'élaboration de films minces de TiO2 par PECVD à la pression atmosphérique. - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
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Optimisation du mode de dépôt dynamique pour l'élaboration de films minces de TiO2 par PECVD à la pression atmosphérique.

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https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-02072436

Soumis le : mardi 19 mars 2019-10:56:13

Dernière modification le : vendredi 10 février 2023-05:00:02

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Dates et versions

hal-02072436 , version 1 (19-03-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02072436 , version 1

Citer

Amelie Perraudeau, Christelle Dublanche-Tixier, Christophe Chazelas, Pascal Tristant. Optimisation du mode de dépôt dynamique pour l'élaboration de films minces de TiO2 par PECVD à la pression atmosphérique.. Journées MAT2VL 2019, Jan 2019, Blois, France. ⟨hal-02072436⟩

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