Optimisation du mode de dépôt dynamique pour l'élaboration de films minces de TiO2 par PECVD à la pression atmosphérique.

Amelie Perraudeau; Christelle Dublanche-Tixier; Christophe Chazelas; Pascal Tristant

Optimisation du mode de dépôt dynamique pour l'élaboration de films minces de TiO2 par PECVD à la pression atmosphérique.

Amelie Perraudeau ¹ Christelle Dublanche-Tixier ¹ Christophe Chazelas ¹ Pascal Tristant ¹

1 IRCER-AXE2 - IRCER - Axe 2 : procédés plasmas et lasers

IRCER - Institut de Recherche sur les CERamiques : AXE2

Type de document :

Communication dans un congrès

Domaine :

Chimie / Matériaux

Sciences de l'ingénieur [physics] / Matériaux

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https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-02072436
Contributeur : Beatrice Derory <>
Soumis le : mardi 19 mars 2019 - 10:56:13
Dernière modification le : mercredi 3 avril 2019 - 01:57:21

Optimisation du mode de dépôt dynamique pour l'élaboration de films minces de TiO2 par PECVD à la pression atmosphérique.

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