Films de TiO2 déposés par PECVD à la pression atmosphérique : optimisation des dépôts et évaluation des propriétés optiques pour le photovoltaïque - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année :

Films de TiO2 déposés par PECVD à la pression atmosphérique : optimisation des dépôts et évaluation des propriétés optiques pour le photovoltaïque

(1) , (1) , (1) , (1) , (1) , (2)
1
2
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02072469 , version 1 (19-03-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02072469 , version 1

Citer

Amelie Perraudeau, Christelle Dublanche-Tixier, Christophe Chazelas, Pascal Tristant, Christophe Le Niniven, et al.. Films de TiO2 déposés par PECVD à la pression atmosphérique : optimisation des dépôts et évaluation des propriétés optiques pour le photovoltaïque. JCMM 2018 - 15èmes Journées de Caractérisation Microondes et Matériaux, Mar 2018, Paris, France. ⟨hal-02072469⟩
17 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook Twitter LinkedIn More