Films de TiO2 déposés par PECVD à la pression atmosphérique : optimisation des dépôts et évaluation des propriétés optiques pour le photovoltaïque

Amelie Perraudeau; Christelle Dublanche-Tixier; Christophe Chazelas; Pascal Tristant; Christophe Le Niniven; Jenny Jouin

Poster

Films de TiO2 déposés par PECVD à la pression atmosphérique : optimisation des dépôts et évaluation des propriétés optiques pour le photovoltaïque

Amelie Perraudeau ¹ Christelle Dublanche-Tixier ¹ Christophe Chazelas ¹ Pascal Tristant ¹ Christophe Le Niniven ¹ Jenny Jouin ²

1 IRCER-AXE2 - IRCER - Axe 2 : procédés plasmas et lasers

IRCER - Institut de Recherche sur les CERamiques : AXE2

2 IRCER-AXE3 - IRCER - Axe 3 : organisation structurale multiéchelle des matériaux

IRCER - Institut de Recherche sur les CERamiques : AXE3

Type de document :

Poster

Domaine :

Chimie / Matériaux

Sciences de l'ingénieur [physics] / Matériaux

Liste complète des métadonnées

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-02072469
Contributeur : BEATRICE DERORY Connectez-vous pour contacter le contributeur
Soumis le : mardi 19 mars 2019 - 11:08:26
Dernière modification le : samedi 26 mars 2022 - 04:29:55

Films de TiO2 déposés par PECVD à la pression atmosphérique : optimisation des dépôts et évaluation des propriétés optiques pour le photovoltaïque

Identifiants

Collections

Citation

Exporter

Métriques

17

Films de TiO2 déposés par PECVD à la pression atmosphérique : optimisation des dépôts et évaluation des propriétés optiques pour le photovoltaïque

Identifiants

Collections

Citation

Exporter

Partager

Métriques

17