Films de TiO2 déposés par PECVD à la pression atmosphérique : optimisation des dépôts et évaluation des propriétés optiques pour le photovoltaïque

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Contributeur : Beatrice Derory <>
Soumis le : mardi 19 mars 2019 - 11:08:26
Dernière modification le : mercredi 3 avril 2019 - 01:57:22

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Citation

Amelie Perraudeau, Christelle Dublanche-Tixier, Christophe Chazelas, Pascal Tristant, Christophe Le Niniven, et al.. Films de TiO2 déposés par PECVD à la pression atmosphérique : optimisation des dépôts et évaluation des propriétés optiques pour le photovoltaïque. JCMM 2018 - 15èmes Journées de Caractérisation Microondes et Matériaux, Mar 2018, Paris, France. ⟨hal-02072469⟩

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