Piezoelectric characteristic of nanocrystalline AlN films obtained by pulsed laser deposition at room temperature

Pascal Tristant 1 G. Sanchez Christelle Dublanche-Tixier 1 Aurelian Crunteanu 2 A. Bologna-Alles Pierre Blondy 2 Arnaud Pothier 2 Florent Tetard 3 C. Cibert 4 P. Dutheil C. Champeaux 5 O. Masson G. Trolliard 6 F. Tétard A. Catherinot
1 Axe 2 : procédés de traitements de surface
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
2 XLIM-RFEI - RF-ELITE : RF-Electronique Imprimée pour les Télécommunications et l'Energie
XLIM - XLIM : RFEI
3 PMTM - Propriétés mécaniques et thermodynamiques des matériaux
4 SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
5 IBCP - Institut de biologie et chimie des protéines [Lyon]
6 SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
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Contributeur : Florent Tétard <>
Soumis le : jeudi 11 avril 2019 - 00:20:27
Dernière modification le : jeudi 25 avril 2019 - 01:21:45

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Pascal Tristant, G. Sanchez, Christelle Dublanche-Tixier, Aurelian Crunteanu, A. Bologna-Alles, et al.. Piezoelectric characteristic of nanocrystalline AlN films obtained by pulsed laser deposition at room temperature. Applied Physics Letters, American Institute of Physics, 2009, 97 (25), pp.45-48. ⟨10.1063/1.3527924⟩. ⟨hal-02095965⟩

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