On the Validity of Continuum Computational Fluid Dynamics Approach Under Very Low-Pressure Plasma Spray Conditions

Dmitrii Ivchenko; Tao Zhang; Gilles Mariaux; Armelle Vardelle; Simon Goutier; Tatiana Itina

On the Validity of Continuum Computational Fluid Dynamics Approach Under Very Low-Pressure Plasma Spray Conditions

Dmitrii Ivchenko ¹ Tao Zhang ² Gilles Mariaux ¹ Armelle Vardelle ¹ Simon Goutier ¹ Tatiana Itina ³

1 IRCER-AXE2 - IRCER - Axe 2 : procédés plasmas et lasers

IRCER - Institut de Recherche sur les CERamiques : AXE2

2 NPU - Northwestern Polytechnical University [Xi'an]

3 LHC - Laboratoire Hubert Curien [Saint Etienne]

Type de document :

Article dans une revue

Domaine :

Chimie / Matériaux

Sciences de l'ingénieur [physics] / Matériaux

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https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-02096819
Contributeur : Beatrice Derory <>
Soumis le : jeudi 11 avril 2019 - 15:49:25
Dernière modification le : samedi 13 avril 2019 - 01:18:20

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