Laser Vaporization Cluster Source combined to a PLD process Microstructure roles on VO2 thin films and cluster stack properties - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année :

Laser Vaporization Cluster Source combined to a PLD process Microstructure roles on VO2 thin films and cluster stack properties

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Corinne Champeaux
IRCER - Axe 2 : procédés plasmas et lasers
CV
M. Gaudin
  • Fonction : Auteur
Pierre Carles
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 963879
Institut de Recherche sur les CERamiques
Catalin Constantinescu
IRCER - Axe 2 : procédés plasmas et lasers
CV
Frédéric Dumas-Bouchiat
IRCER - Axe 2 : procédés plasmas et lasers

Domaines

Chimie Matériaux Sciences de l'ingénieur [physics] Matériaux

BEATRICE DERORY  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-02128842

Soumis le : mardi 14 mai 2019-14:47:20

Dernière modification le : samedi 26 mars 2022-04:27:59

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02128842 , version 1 (14-05-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02128842 , version 1

Citer

Corinne Champeaux, M. Gaudin, Pierre Carles, Catalin Constantinescu, Frédéric Dumas-Bouchiat. Laser Vaporization Cluster Source combined to a PLD process Microstructure roles on VO2 thin films and cluster stack properties. HPLA (International High Power Laser Ablation) 2018, Mar 2018, Santa Fe, United States. ⟨hal-02128842⟩

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