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Dynamic mode optimization for the deposition of homogeneous TiO2 thin film by atmospheric pressure PECVD using a microwave plasma torch

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https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-02475685
Contributeur : Beatrice Derory <>
Soumis le : mercredi 12 février 2020 - 11:14:06
Dernière modification le : mardi 25 février 2020 - 10:26:02

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Amelie Perraudeau, Christelle Dublanche-Tixier, Pascal Tristant, Christophe Chazelas. Dynamic mode optimization for the deposition of homogeneous TiO2 thin film by atmospheric pressure PECVD using a microwave plasma torch. Applied Surface Science, Elsevier, 2019, 493, pp.703-709. ⟨10.1016/j.apsusc.2019.07.057⟩. ⟨hal-02475685⟩

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