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Dynamic mode optimization for the deposition of homogeneous TiO2 thin film by atmospheric pressure PECVD using a microwave plasma torch
https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-02475685
Contributeur : Accord Elsevier CCSD Connectez-vous pour contacter le contributeur
Soumis le : lundi 25 octobre 2021 - 14:49:06
Dernière modification le : samedi 26 mars 2022 - 04:29:34
Archivage à long terme le : : mercredi 26 janvier 2022 - 20:51:21
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