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Dynamic mode optimization for the deposition of homogeneous TiO2 thin film by atmospheric pressure PECVD using a microwave plasma torch

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Soumis le : lundi 25 octobre 2021 - 14:49:06
Dernière modification le : mercredi 3 novembre 2021 - 06:28:55

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Amelie Perraudeau, Christelle Dublanche-Tixier, Pascal Tristant, Christophe Chazelas. Dynamic mode optimization for the deposition of homogeneous TiO2 thin film by atmospheric pressure PECVD using a microwave plasma torch. Applied Surface Science, Elsevier, 2019, 493, pp.703-709. ⟨10.1016/j.apsusc.2019.07.057⟩. ⟨hal-02475685⟩

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