Dynamic mode optimization for the deposition of homogeneous TiO2 thin film by atmospheric pressure PECVD using a microwave plasma torch

Amelie Perraudeau; Christelle Dublanche-Tixier; Pascal Tristant; Christophe Chazelas

doi:10.1016/j.apsusc.2019.07.057

Article dans une revue

Dynamic mode optimization for the deposition of homogeneous TiO2 thin film by atmospheric pressure PECVD using a microwave plasma torch

Amelie Perraudeau ¹ Christelle Dublanche-Tixier ¹ Pascal Tristant ¹ Christophe Chazelas ¹

1 IRCER-AXE2 - IRCER - Axe 2 : procédés plasmas et lasers

IRCER - Institut de Recherche sur les CERamiques : AXE2

Type de document :

Article dans une revue

Domaine :

Chimie / Matériaux

Sciences de l'ingénieur [physics] / Matériaux

Liste complète des métadonnées

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-02475685
Contributeur : Beatrice Derory <>
Soumis le : mercredi 12 février 2020 - 11:14:06
Dernière modification le : mardi 25 février 2020 - 10:26:02

Dynamic mode optimization for the deposition of homogeneous TiO2 thin film by atmospheric pressure PECVD using a microwave plasma torch

Identifiants

Collections

Citation

Exporter

Métriques

61

Dynamic mode optimization for the deposition of homogeneous TiO2 thin film by atmospheric pressure PECVD using a microwave plasma torch

Identifiants

Collections

Citation

Exporter

Partager

Métriques

61