Dynamic mode optimization for the deposition of homogeneous TiO2 thin film by atmospheric pressure PECVD using a microwave plasma torch - Université de Limoges Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Applied Surface Science Année : 2019

Dynamic mode optimization for the deposition of homogeneous TiO2 thin film by atmospheric pressure PECVD using a microwave plasma torch

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hal-02475685 , version 1 (25-10-2021)

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Paternité - Pas d'utilisation commerciale

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Amelie Perraudeau, Christelle Dublanche-Tixier, Pascal Tristant, Christophe Chazelas. Dynamic mode optimization for the deposition of homogeneous TiO2 thin film by atmospheric pressure PECVD using a microwave plasma torch. Applied Surface Science, 2019, 493, pp.703-709. ⟨10.1016/j.apsusc.2019.07.057⟩. ⟨hal-02475685⟩
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