Deposition of titanium dioxide films by atmospheric pressure plasma torch: design of the layer in the view of photovoltaic applications - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
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Deposition of titanium dioxide films by atmospheric pressure plasma torch: design of the layer in the view of photovoltaic applications

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Chimie Matériaux Sciences de l'ingénieur [physics] Matériaux

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https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-02475795

Soumis le : mercredi 12 février 2020-11:55:15

Dernière modification le : vendredi 10 février 2023-05:12:48

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02475795 , version 1 (12-02-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02475795 , version 1

Citer

Amelie Perraudeau, Christelle Dublanche-Tixier, Pascal Tristant, Christophe Chazelas, S. Vedraine, et al.. Deposition of titanium dioxide films by atmospheric pressure plasma torch: design of the layer in the view of photovoltaic applications. Plathinium 2019, Sep 2019, Antibes, France. ⟨hal-02475795⟩

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