Modification de la permittivité de l'Arséniure de Gallium et du Phosphure de Gallium sous l'effet de la lumière à 50K

David Mouneyrac; J.G. Hartnett; Jean-Michel Le Floch; Jerzy Krupka; Michael Tobar; Dominique Cros

Communication dans un congrès

Modification de la permittivité de l'Arséniure de Gallium et du Phosphure de Gallium sous l'effet de la lumière à 50K

David Mouneyrac ^{1, 2} J.G. Hartnett ³ Jean-Michel Le Floch ^{1, 2} Jerzy Krupka ⁴ Michael Tobar ¹ Dominique Cros ²

1 School of Physics

2 MINACOM

XLIM - XLIM

3 FSM - Frequency standards and metrology

4 WARSAW UNIVERSITY OF TECHNOLOGY - Institute of Microelectronics and Optoelectronics, Department of Electronics, Warsaw University of Technology

Type de document :

Communication dans un congrès

Domaine :

Sciences de l'ingénieur [physics] / Electronique

Liste complète des métadonnées

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-00436418
Contributeur : Marie-Laure Guillat <>
Soumis le : jeudi 26 novembre 2009 - 16:37:45
Dernière modification le : jeudi 11 janvier 2018 - 06:26:12

Modification de la permittivité de l'Arséniure de Gallium et du Phosphure de Gallium sous l'effet de la lumière à 50K

Identifiants

Collections

Citation

Exporter

Métriques

134

Modification de la permittivité de l'Arséniure de Gallium et du Phosphure de Gallium sous l'effet de la lumière à 50K

Identifiants

Collections

Citation

Exporter

Partager

Métriques

134