Elaboration of Ti3SiC2 deposits on glass by aerosol deposition method: influence of some parameters on microstructure and electrical properties - Université de Limoges Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2013

Elaboration of Ti3SiC2 deposits on glass by aerosol deposition method: influence of some parameters on microstructure and electrical properties

Et Al.
  • Fonction : Auteur

Domaines

Matériaux
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00949329 , version 1 (19-02-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00949329 , version 1

Citer

Joseph Henon, Et Al.. Elaboration of Ti3SiC2 deposits on glass by aerosol deposition method: influence of some parameters on microstructure and electrical properties. 2nd International Symposium on Inorganic and Environmental Materials (ISIEM 2013), Oct 2013, Rennes, France. ⟨hal-00949329⟩
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