Elaboration of Ti3SiC2 deposits on glass by aerosol deposition method: influence of some parameters on microstructure and electrical properties - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année :

Elaboration of Ti3SiC2 deposits on glass by aerosol deposition method: influence of some parameters on microstructure and electrical properties

Joseph Henon
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 963320
Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
Et Al.
  • Fonction : Auteur

Domaines

Chimie Matériaux

Pamela Bathias  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-00949329

Soumis le : mercredi 19 février 2014-14:56:59

Dernière modification le : jeudi 9 février 2023-05:11:27

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00949329 , version 1 (19-02-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00949329 , version 1

Citer

Joseph Henon, Et Al.. Elaboration of Ti3SiC2 deposits on glass by aerosol deposition method: influence of some parameters on microstructure and electrical properties. 2nd International Symposium on Inorganic and Environmental Materials (ISIEM 2013), Oct 2013, Rennes, France. ⟨hal-00949329⟩

Exporter

BibTeX TEI Dublin Core DC Terms EndNote Datacite

Collections

UNILIM CNRS SPCTS IPAM INC-CNRS IRCER IMPEO
28 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook Twitter LinkedIn More