Elaboration of Ti3SiC2 deposits on glass by aerosol deposition method: influence of some parameters on microstructure and electrical properties

Type de document :
Communication dans un congrès
Domaine :
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https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-00949329
Contributeur : Pamela Bathias <>
Soumis le : mercredi 19 février 2014 - 14:56:59
Dernière modification le : mercredi 14 février 2018 - 15:40:46

Identifiants

  • HAL Id : hal-00949329, version 1

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Joseph Henon, Et Al.. Elaboration of Ti3SiC2 deposits on glass by aerosol deposition method: influence of some parameters on microstructure and electrical properties. 2nd International Symposium on Inorganic and Environmental Materials (ISIEM 2013), Oct 2013, Rennes, France. ⟨hal-00949329⟩

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