Arrêt de service lundi 11 juillet de 12h30 à 13h : tous les sites du CCSD (HAL, EpiSciences, SciencesConf, AureHAL) seront inaccessibles (branchement réseau à modifier)
Accéder directement au contenu Accéder directement à la navigation
Article dans une revue

Elaboration of tin oxide nano-islands through post-deposition thermal treatment

Elsa Thune 1, 2, * Wael Hamd 1, 2 Aénor Pons 1, 2 Jochi Tseng 1, 2 René Guinebretière 1, 2 
* Auteur correspondant
1 SPCTS-AXE3 - Axe 3 : organisation structurale multiéchelle des matériaux
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
Abstract : Tin dioxide (SnO2) films have been grown onto (006) sapphire substrates by sol-gel dip-coating using tin alkoxide solutions. It is shown, using transmission electron microscopy and atomic force microscopy, that the thickness of the layers is easily controlled with tin concentration. It can vary after the deposition process between few nanometers and few tens of nanometers according to the concentration of the precursor in the sol. A postdeposition thermal treatment forces the continuous precursor film to split into isolated islands. A decrease of the tin concentration in the precursor sol to 100 μM allows the formation of islands of a few nanometers (3 nm) in height and several tens of nanometers in diameter (30 nm). Such height value is very close to the Bohr radius of SnO2.
Type de document :
Article dans une revue
Liste complète des métadonnées

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-00999790
Contributeur : Elsa Thune Connectez-vous pour contacter le contributeur
Soumis le : mercredi 4 juin 2014 - 10:06:33
Dernière modification le : samedi 26 mars 2022 - 04:27:44

Identifiants

Collections

Citation

Elsa Thune, Wael Hamd, Aénor Pons, Jochi Tseng, René Guinebretière. Elaboration of tin oxide nano-islands through post-deposition thermal treatment. Thin Solid Films, Elsevier, 2014, 562, pp.200-205. ⟨10.1016/j.tsf.2014.04.055⟩. ⟨hal-00999790⟩

Partager

Métriques

Consultations de la notice

89