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Article dans une revue
Key Challenges and Opportunities in Suspension and Solution Plasma Spraying
Pierre Fauchais
1
Michel Vardelle
1
Simon Goutier
1
Armelle Vardelle
1
1
Axe 2 : procédés de traitements de surface
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
Pierre Fauchais 1
Auteur
Michel Vardelle 1
Auteur
Simon Goutier 1
Auteur IdHAL : simon-goutier ORCID : https://orcid.org/0000-0003-3759-0406
Armelle Vardelle 1
Auteur IdHAL : armelle-vardelle
1
Axe 2 : procédés de traitements de surface (France)
- SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface (SPCTS, Centre Européen de la Céramique, 12 Rue Atlantis, 87068 LIMOGES CEDEX - France)
- UNILIM - Université de Limoges : UMR6638 (33 rue François Mitterrand BP23204 87032 Limoges - France)
- ENSCI - Ecole Nationale Supérieure de Céramique Industrielle : UMR6638 (Centre Européen de la Céramique - 12, rue Atlantis - 87068 Limoges Cedex - France)
- IPAM - Institut des Procédés Appliqués aux Matériaux : UMR6638 (Centre Européen de la Céramique
12, rue Atlantis, parc d’Ester
87068 Limoges Cedex - France)
- UNILIM - Université de Limoges (33 rue François Mitterrand BP23204 87032 Limoges - France)
- INC - Institut de Chimie du CNRS : UMR6638 (3 Rue Michel-Ange 75 016 Paris - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR6638 (France)
Liste complète des métadonnées
https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-01491329
Contributeur : Simon Goutier <>
Soumis le : jeudi 16 mars 2017 - 16:19:19
Dernière modification le : mercredi 22 juillet 2020 - 10:48:14
Contributeur : Simon Goutier <>
Soumis le : jeudi 16 mars 2017 - 16:19:19
Dernière modification le : mercredi 22 juillet 2020 - 10:48:14
Identifiants
- HAL Id : hal-01491329, version 1
- DOI : 10.1007/s11090-014-9594-5
Collections
UNILIM | CNRS | SPCTS-AXE2 | IPAM | SPCTS | IRCER | IRCER-AXE2
Citation
Pierre Fauchais, Michel Vardelle, Simon Goutier, Armelle Vardelle. Key Challenges and Opportunities in Suspension and Solution Plasma Spraying. Plasma Chemistry and Plasma Processing, Springer Verlag, 2015, 35 (3), pp.511 - 525. ⟨10.1007/s11090-014-9594-5⟩. ⟨hal-01491329⟩
Métriques
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