Key Challenges and Opportunities in Suspension and Solution Plasma Spraying - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Plasma Chemistry and Plasma Processing Année : 2015

Key Challenges and Opportunities in Suspension and Solution Plasma Spraying

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Domaines

Chimie Matériaux
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01491329 , version 1 (16-03-2017)

Identifiants

Citer

Pierre Fauchais, Michel Vardelle, Simon Goutier, Armelle Vardelle. Key Challenges and Opportunities in Suspension and Solution Plasma Spraying. Plasma Chemistry and Plasma Processing, 2015, 35 (3), pp.511 - 525. ⟨10.1007/s11090-014-9594-5⟩. ⟨hal-01491329⟩
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