Na0.5Bi0.5TiO3 (NBT) ferroelectric/paraelectric thin film tunable capacitors developed by pulsed laser deposition (PLD) for radiofrequency/microwave applications - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année :

Na0.5Bi0.5TiO3 (NBT) ferroelectric/paraelectric thin film tunable capacitors developed by pulsed laser deposition (PLD) for radiofrequency/microwave applications

Catalin Constantinescu
Axe 2 : procédés de traitements de surface
CV
P. Dutheil
  • Fonction : Auteur
M. Rammal
  • Fonction : Auteur
L. Huitema
A. Crunteanu
  • Fonction : Auteur
Pascal Marchet
Axe 3 : organisation structurale multiéchelle des matériaux
Frédéric Dumas-Bouchiat
Axe 2 : procédés de traitements de surface
Corinne Champeaux
Axe 2 : procédés de traitements de surface
CV

Domaines

Chimie Matériaux Sciences de l'ingénieur [physics] Matériaux

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https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-01840739

Soumis le : lundi 16 juillet 2018-16:08:23

Dernière modification le : mercredi 8 février 2023-17:11:04

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01840739 , version 1 (16-07-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01840739 , version 1

Citer

Catalin Constantinescu, P. Dutheil, M. Rammal, L. Huitema, A. Crunteanu, et al.. Na0.5Bi0.5TiO3 (NBT) ferroelectric/paraelectric thin film tunable capacitors developed by pulsed laser deposition (PLD) for radiofrequency/microwave applications. GDR Oxyfun, Mar 2016, Autrans, France. ⟨hal-01840739⟩

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