Vanadium dioxide: continuous thin film versus nanoparticle stac

Michael Gaudin; Frédéric Dumas-Bouchiat; Pierre Carles; Etienne Laborde; Valérie Coudert; Corinne Champeaux

Communication Dans Un Congrès Année : 2016

Vanadium dioxide: continuous thin film versus nanoparticle stac

(1) , (2) , (3) , (4) , (5) , (2)

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Michael Gaudin

Fonction : Auteur

IRCER - Axe 2 : procédés plasmas et lasers

Frédéric Dumas-Bouchiat

Fonction : Auteur
PersonId : 19065
IdHAL : frederic-dumas-bouchiat
ORCID : 0000-0001-8004-4529
IdRef : 096245840

Axe 2 : procédés de traitements de surface

Pierre Carles

Fonction : Auteur
PersonId : 963879

Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface

Etienne Laborde

Fonction : Auteur
PersonId : 929246

Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface

Valérie Coudert

Fonction : Auteur
PersonId : 929133

Axe 1 : procédés céramiques

Corinne Champeaux

Fonction : Auteur
PersonId : 965
IdHAL : corinnechampeaux
ORCID : 0000-0003-0953-2591
IdRef : 078012260

Axe 2 : procédés de traitements de surface

CV

Domaines

Matériaux Matériaux

BEATRICE DERORY : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://unilim.hal.science/hal-01851654

Soumis le : lundi 30 juillet 2018-15:50:19

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:12

Dates et versions

hal-01851654 , version 1 (30-07-2018)

Identifiants

HAL Id : hal-01851654 , version 1

Citer

Michael Gaudin, Frédéric Dumas-Bouchiat, Pierre Carles, Etienne Laborde, Valérie Coudert, et al.. Vanadium dioxide: continuous thin film versus nanoparticle stac. Electroceramics XV, SPCTS, Jun 2016, Limoges, France. ⟨hal-01851654⟩

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