Accéder directement au contenu Accéder directement à la navigation
Poster

Validity of the continuum approach in the modelling of very low pressure plasma spraying

Dmitrii Ivchenko 1 T. Zhang Gilles Mariaux 2 Armelle Vardelle 2 Cj. Li Simon Goutier 2 T. Itina
1 SPCTS-AXE2 - Axe 2 : procédés plasmas et lasers
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
2 Axe 2 : procédés de traitements de surface
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
Type de document :
Poster
Liste complète des métadonnées

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-01885663
Contributeur : Beatrice Derory <>
Soumis le : mardi 2 octobre 2018 - 11:03:34
Dernière modification le : jeudi 18 octobre 2018 - 16:11:08

Identifiants

  • HAL Id : hal-01885663, version 1

Collections

Citation

Dmitrii Ivchenko, T. Zhang, Gilles Mariaux, Armelle Vardelle, Cj. Li, et al.. Validity of the continuum approach in the modelling of very low pressure plasma spraying. ISPC 23, Jul 2017, Montréal, Canada. ⟨hal-01885663⟩

Partager

Métriques

Consultations de la notice

26