Validity of the continuum approach in the modelling of very low pressure plasma spraying - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année :

Validity of the continuum approach in the modelling of very low pressure plasma spraying

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2
Dmitrii Ivchenko
  • Fonction : Auteur
Axe 2 : procédés plasmas et lasers
Tiantian Zhang
  • Fonction : Auteur
Gilles Mariaux
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 925439
Axe 2 : procédés de traitements de surface
Armelle Vardelle
Axe 2 : procédés de traitements de surface
Cj. Li
  • Fonction : Auteur
Simon Goutier
Axe 2 : procédés de traitements de surface
CV
T. Itina
  • Fonction : Auteur

Domaines

Chimie Matériaux Sciences de l'ingénieur [physics] Matériaux

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https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-01885663

Soumis le : mardi 2 octobre 2018-11:03:34

Dernière modification le : samedi 26 mars 2022-04:29:44

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01885663 , version 1 (02-10-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01885663 , version 1

Citer

Dmitrii Ivchenko, Tiantian Zhang, Gilles Mariaux, Armelle Vardelle, Cj. Li, et al.. Validity of the continuum approach in the modelling of very low pressure plasma spraying. ISPC 23, Jul 2017, Montréal, Canada. ⟨hal-01885663⟩

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