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Validity of the continuum approach in the modelling of very low pressure plasma spraying

Dmitrii Ivchenko 1 Tiantian Zhang Gilles Mariaux 2 Armelle Vardelle 2 Cj. Li Simon Goutier 2 T. Itina 
1 SPCTS-AXE2 - Axe 2 : procédés plasmas et lasers
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
2 Axe 2 : procédés de traitements de surface
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
Type de document :
Poster
Liste complète des métadonnées

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-01885663
Contributeur : BEATRICE DERORY Connectez-vous pour contacter le contributeur
Soumis le : mardi 2 octobre 2018 - 11:03:34
Dernière modification le : samedi 26 mars 2022 - 04:29:44

Identifiants

  • HAL Id : hal-01885663, version 1

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Citation

Dmitrii Ivchenko, Tiantian Zhang, Gilles Mariaux, Armelle Vardelle, Cj. Li, et al.. Validity of the continuum approach in the modelling of very low pressure plasma spraying. ISPC 23, Jul 2017, Montréal, Canada. ⟨hal-01885663⟩

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