Validity of the continuum approach in the modelling of very low pressure plasma spraying

Dmitrii Ivchenko; Tiantian Zhang; Gilles Mariaux; Armelle Vardelle; Cj. Li; Simon Goutier; T. Itina

Poster De Conférence Année : 2017

Validity of the continuum approach in the modelling of very low pressure plasma spraying

(1) , , (2) , (2) , , (2) ,

1
2

Dmitrii Ivchenko

Fonction : Auteur

Axe 2 : procédés plasmas et lasers

Tiantian Zhang

Fonction : Auteur

Gilles Mariaux

Fonction : Auteur
PersonId : 925439

Axe 2 : procédés de traitements de surface

Armelle Vardelle

Fonction : Auteur
PersonId : 16139
IdHAL : armelle-vardelle
IdRef : 033315493

Axe 2 : procédés de traitements de surface

Cj. Li

Fonction : Auteur

Simon Goutier

Fonction : Auteur
PersonId : 13006
IdHAL : simon-goutier
ORCID : 0000-0003-3759-0406

Axe 2 : procédés de traitements de surface

CV

T. Itina

Fonction : Auteur

Domaines

Matériaux Matériaux

BEATRICE DERORY : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://unilim.hal.science/hal-01885663

Soumis le : mardi 2 octobre 2018-11:03:34

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:14

Dates et versions

hal-01885663 , version 1 (02-10-2018)

Identifiants

HAL Id : hal-01885663 , version 1

Citer

Dmitrii Ivchenko, Tiantian Zhang, Gilles Mariaux, Armelle Vardelle, Cj. Li, et al.. Validity of the continuum approach in the modelling of very low pressure plasma spraying. ISPC 23, Jul 2017, Montréal, Canada. ⟨hal-01885663⟩

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