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Poster De Conférence Année :

Validity of the continuum approach in the modelling of very low pressure plasma spraying

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Tiantian Zhang
  • Fonction : Auteur
Gilles Mariaux
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 925439
Cj. Li
  • Fonction : Auteur
T. Itina
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01885663 , version 1 (02-10-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01885663 , version 1

Citer

Dmitrii Ivchenko, Tiantian Zhang, Gilles Mariaux, Armelle Vardelle, Cj. Li, et al.. Validity of the continuum approach in the modelling of very low pressure plasma spraying. ISPC 23, Jul 2017, Montréal, Canada. ⟨hal-01885663⟩
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