Pulsed laser deposition of thin film capacitors with applications in highly tunable digital and analogic microwave devices - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année :

Pulsed laser deposition of thin film capacitors with applications in highly tunable digital and analogic microwave devices

Catalin Constantinescu
Axe 2 : procédés de traitements de surface
CV
A. Ghalem
  • Fonction : Auteur
M. Rammal
  • Fonction : Auteur
Pascal Marchet
Axe 3 : organisation structurale multiéchelle des matériaux
L. Huitema
A. Crunteanu
  • Fonction : Auteur
L. Nedelcu
  • Fonction : Auteur
L. Trupina
  • Fonction : Auteur
G. Banciu
  • Fonction : Auteur
Frédéric Dumas-Bouchiat
Axe 2 : procédés de traitements de surface
Corinne Champeaux
Axe 2 : procédés de traitements de surface
CV

Domaines

Chimie Matériaux Sciences de l'ingénieur [physics] Matériaux

BEATRICE DERORY  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-01899404

Soumis le : vendredi 19 octobre 2018-14:31:03

Dernière modification le : jeudi 9 février 2023-05:12:02

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01899404 , version 1 (19-10-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01899404 , version 1

Citer

Catalin Constantinescu, A. Ghalem, M. Rammal, Pascal Marchet, L. Huitema, et al.. Pulsed laser deposition of thin film capacitors with applications in highly tunable digital and analogic microwave devices. ROCAM 2017, Jul 2017, Bucarest, Romania. ⟨hal-01899404⟩

Exporter

BibTeX TEI Dublin Core DC Terms EndNote Datacite

Collections

UNILIM CNRS SPCTS SPCTS-AXE2 SPCTS-AXE3 IPAM INC-CNRS IRCER IRCER-AXE2 IRCER-AXE3 IMPEO
28 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook Twitter LinkedIn More