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Optimized nc-Si:H thin films with enhanced optoelectronic properties prepared by micro-waves PECVD used as an effective silicon surface passivation layer

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https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-02172223
Contributeur : Beatrice Derory Connectez-vous pour contacter le contributeur
Soumis le : mercredi 3 juillet 2019 - 15:51:31
Dernière modification le : mercredi 3 novembre 2021 - 08:29:58

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Citation

Seif El Whibi, Lotfi Derbali, Pascal Tristant, Cédric Jaoul, Maggy Colas, et al.. Optimized nc-Si:H thin films with enhanced optoelectronic properties prepared by micro-waves PECVD used as an effective silicon surface passivation layer. Journal of Materials Science: Materials in Electronics, Springer Verlag, 2019, 30 (3), pp.2351-2359. ⟨10.1007/s10854-018-0508-9⟩. ⟨hal-02172223⟩

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