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Films de TiO2 déposés par PECVD à la pression atmosphérique: optimisation des dépôts et évaluation des propriétés optiques pour le photovoltaïque

Domaines

Chimie Matériaux Sciences de l'ingénieur [physics] Matériaux

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https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-02174447

Soumis le : vendredi 5 juillet 2019-09:59:01

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:11

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02174447 , version 1 (05-07-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02174447 , version 1

Citer

Amelie Perraudeau, Christelle Dublanche-Tixier, Christophe Chazelas, Pascal Tristant, C. Le Niniven, et al.. Films de TiO2 déposés par PECVD à la pression atmosphérique: optimisation des dépôts et évaluation des propriétés optiques pour le photovoltaïque. JCMM 2018, Mar 2018, Paris, France. ⟨hal-02174447⟩

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