Films de TiO2 déposés par PECVD à la pression atmosphérique: optimisation des dépôts et évaluation des propriétés optiques pour le photovoltaïque

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Contributeur : Beatrice Derory <>
Soumis le : vendredi 5 juillet 2019 - 09:59:01
Dernière modification le : samedi 6 juillet 2019 - 01:22:20

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  • HAL Id : hal-02174447, version 1

Citation

Amelie Perraudeau, Christelle Dublanche-Tixier, Christophe Chazelas, Pascal Tristant, C. Le Niniven, et al.. Films de TiO2 déposés par PECVD à la pression atmosphérique: optimisation des dépôts et évaluation des propriétés optiques pour le photovoltaïque. JCMM 2018, Mar 2018, Paris, France. ⟨hal-02174447⟩

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