Elaboration of an aluminum oxide thin film deposited by magnetron sputtering on boron nitride substrates: role of the physical and chemical properties of BN substrates - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
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Elaboration of an aluminum oxide thin film deposited by magnetron sputtering on boron nitride substrates: role of the physical and chemical properties of BN substrates

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Chimie Matériaux Sciences de l'ingénieur [physics] Matériaux

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https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-02409034

Soumis le : vendredi 13 décembre 2019-11:41:06

Dernière modification le : samedi 26 mars 2022-04:29:34

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02409034 , version 1 (13-12-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02409034 , version 1

Citer

Mariana Trujillo Arredondo, Cédric Jaoul, Sylvain Maine, Olivier Rapaud, Pascal Tristant. Elaboration of an aluminum oxide thin film deposited by magnetron sputtering on boron nitride substrates: role of the physical and chemical properties of BN substrates. XVI ECerS Conference 2019, Jun 2019, Torino, Italy. ⟨hal-02409034⟩

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