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Communication Dans Un Congrès Année :

Formation of Ti3SiC2 films by aerosol deposition method

Malgorzata Anna Piechowiak
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 929245
Axe 1 : procédés céramiques
Fabrice Rossignol
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 929134
Axe 1 : procédés céramiques
O. Durand
  • Fonction : Auteur
G. Etchegoyen
  • Fonction : Auteur
Centre de Transfert de Technologies Céramiques

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https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-00950557

Soumis le : vendredi 21 février 2014-15:57:38

Dernière modification le : jeudi 9 février 2023-05:11:19

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00950557 , version 1 (21-02-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00950557 , version 1

Citer

Malgorzata Anna Piechowiak, Fabrice Rossignol, O. Durand, G. Etchegoyen. Formation of Ti3SiC2 films by aerosol deposition method. International Conference on Solid Films and Surface (ICSFS16), Jul 2012, Genes, Italy. ⟨hal-00950557⟩

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