Formation of Ti3SiC2 films by aerosol deposition method

Malgorzata Anna Piechowiak; Fabrice Rossignol; O. Durand; G. Etchegoyen

Communication dans un congrès

Formation of Ti3SiC2 films by aerosol deposition method

Malgorzata Anna Piechowiak ¹ Fabrice Rossignol ¹ O. Durand G. Etchegoyen ²

1 Axe 1 : procédés céramiques

SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface

2 CTTC - Centre de Transfert de Technologies Céramiques

Type de document :

Communication dans un congrès

Domaine :

Chimie / Matériaux

Liste complète des métadonnées

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-00950557
Contributeur : Pamela Bathias Connectez-vous pour contacter le contributeur
Soumis le : vendredi 21 février 2014 - 15:57:38
Dernière modification le : mercredi 15 décembre 2021 - 09:59:22

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