Formation of Ti3SiC2 films by aerosol deposition method

Malgorzata Anna Piechowiak 1 Fabrice Rossignol 1 O. Durand G. Etchegoyen 2
1 Axe 1 : procédés céramiques
SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
2 CTTC - Centre de Transfert de Technologies Céramiques
Type de document :
Communication dans un congrès
Domaine :
Liste complète des métadonnées
https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-00950557
Contributeur : Pamela Bathias <>
Soumis le : vendredi 21 février 2014 - 15:57:38
Dernière modification le : mercredi 14 février 2018 - 16:02:09

Identifiants

  • HAL Id : hal-00950557, version 1

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SPCTS | CNRS | SPCTS-AXE1 | UNILIM | IPAM | IRCER | IRCER-AXE1

Citation

Malgorzata Anna Piechowiak, Fabrice Rossignol, O. Durand, G. Etchegoyen. Formation of Ti3SiC2 films by aerosol deposition method. International Conference on Solid Films and Surface (ICSFS16), Jul 2012, Genes, Italy. ⟨hal-00950557⟩

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