Formation of Ti3SiC2 films by aerosol deposition method

Type de document :
Communication dans un congrès
Domaine :
Liste complète des métadonnées

https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-00950557
Contributeur : Pamela Bathias <>
Soumis le : vendredi 21 février 2014 - 15:57:38
Dernière modification le : mercredi 14 février 2018 - 16:02:09

Identifiants

  • HAL Id : hal-00950557, version 1

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Citation

Malgorzata Anna Piechowiak, Fabrice Rossignol, O. Durand, G. Etchegoyen. Formation of Ti3SiC2 films by aerosol deposition method. International Conference on Solid Films and Surface (ICSFS16), Jul 2012, Genes, Italy. ⟨hal-00950557⟩

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